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高溫氣氛管式爐以硅碳棒為發(fā)熱元件；采用雙層殼體結構和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，能快速升降溫，爐管下方配有支架，有效防止爐管兩端高溫變形斷裂；可以預抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護燒結、氣氛還原用的理想產品。

更新日期：2024-10-22

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￥11800

1400℃雙溫區(qū)管式氣氛爐以硅碳棒為發(fā)熱元件；雙層風冷結構；高純氧化鋁纖維真空吸附次成型；高密度硅碳棒真空擠壓成型；剛玉管外徑為60、80mm。兩個溫區(qū)分別由兩個獨立的溫控系統(tǒng)來控制且都為PID30段程序化控溫。是奧菲達儀器自行研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型管式電爐，產品具有合理的結構，升溫快，操作簡便，密封性能好，可預抽真空，真空能保持較長時間，也可以保持微正壓。

更新日期：2024-10-22

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￥13500

小型立式管式爐是河南奧菲達儀器專為針對粉末表面沉積的CVD實驗開發(fā)而成的，采用高純氧化鋁纖維制爐膛，爐體結構為保溫層兩半開啟式,集控制系統(tǒng)與爐膛為體，可在垂直和水平等多個工位下工作。該爐爐管可旋轉各個角度，操作簡單、控溫度高、保溫效果好、爐膛溫度均勻性高、可通氣氛抽真空等特點。

更新日期：2024-10-22

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￥9800

迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。 適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛

更新日期：2024-10-22

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￥8900

1400℃真空管式爐技術參數(shù)： 用途概述：管式爐采技術，有單管、臥式、可開啟式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫度高、保溫效果好、溫度范圍大、溫場均勻性高、溫區(qū)多，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、真空退火用的理想產品. 為實驗單位提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗條件下做元素分析、物理測定、等加熱實驗。并應用在半導體、納米、碳纖維

更新日期：2024-10-22

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可傾斜式高溫管式爐可360度旋轉，管壁內有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結的更均勻，用于電池正負材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料的實驗室煅燒及干燥，用戶可根據(jù)所要燒制的材料選擇在真空下或者氣氛保護下進行燒制。連接氣路管道的情況下依然可以旋轉石英管。

更新日期：2024-10-22

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￥10350